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        XZC光刻过滤器接纳一系列膜质料去有效地去除工艺中的污染物。消弭了有害微粒净化,凝胶微桥缺点,微泡朴陋缺点和晶片表面上的金属净化的可能性。下润湿性膜不会障碍氛围排挤,致使较少的微泡构成和较短的吹扫工夫。

        优化过滤器设想可削减启动历程中的化学品运用量,并最大水平的削减了正在晶片外面气泡缺点的构成。过滤器消灭氛围可防止构成微泡,那关于削减涂层缺点和进步产量至关重要。过滤器的设想正在两头供应较低的压差,并正在分派历程中最大限度天削减气泡的构成。

        XZC的过滤器设想运用大表面积,高压差,从而进步凝胶去除效力和最小化微泡构成。

        低操纵压力确保过滤器正在分派历程中不会致使光化学物资开释出气体,由于它们正在分派历程中从高压分派到高压。那能够经由过程具有高压降的过滤器去实现。尼龙6,6和高密度聚乙烯膜取典范的光刻化学品完整兼容,正在提取物方面极为清洁,并具有优秀的润湿性。



 


        




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