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        批量干蚀刻和干净工艺触及同时处置惩罚多个晶圆。将晶片浸入,而且经由过程过滤反复轮回处置惩罚化学品,该过滤设想是为了去除晶片外面正在被蚀刻的颗粒。正在多道次湿法蚀刻和干净工艺中,具有较下流动性的过滤器能够增添熔池周转以改进颗粒去除效力。

        XZC供应一系列耐化学侵蚀和低金属材料的滤芯,能够改进那一工艺周转率。我们的褶皱滤芯供应了要害的湿法蚀刻和干净历程中一般需求的流量和使用寿命。

湿法刻蚀和干净.jpg